メインシアター(東5ホール会場内)
2019年1月30日(水)
オランダハイテクセミナー
【主催】オランダ王国大使館
【開催時間】15:00-16:20
■ Keynotes | キーノート (15:00~15:15)
- Toru Nishikawa, CEO Preferred Networks
株式会社Preferred Networks 代表取締役社長 最高経営責任者 西川徹
- Toru Nishikawa, CEO Preferred Networks
株式会社Preferred Networks 代表取締役社長 最高経営責任者 西川徹
■ Panel Session (Fireside Discussion) | パネルセッション(座談会)(15:15~16:00)
Moderated by Keiichi Murayama from Nikkei Inc.
モデレーター:日本経済新聞 村山恵一
Moderated by Keiichi Murayama from Nikkei Inc.
モデレーター:日本経済新聞 村山恵一
Panel Members | パネルメンバー
- Prince Constantijn van Oranje-Nassau, Special Envoy StartupDelta
StartupDelta 特使 コンスタンティン王子
- Toru Nishikawa, CEO Preferred Networks
株式会社Preferred Networks 代表取締役社長 最高経営責任者 西川徹
- Tomoji Kawai, Professor, ISIR, Osaka University
StartupDelta 特使 コンスタンティン王子
- Toru Nishikawa, CEO Preferred Networks
株式会社Preferred Networks 代表取締役社長 最高経営責任者 西川徹
- Tomoji Kawai, Professor, ISIR, Osaka University
Executive Director, Technology Strategy Center, NEDO,
nano tech Executive Committee Chairman
大阪大学 産業科学研究所・特任教授、NEDO 技術戦略研究センター長、nano tech 実行委員会 委員長 川合知二
- Annie Chang, Women in Technology Japan, President
Women In Technology Japan 代表 アニー・チャン
- Janneke Hoedemaekers, Technical and Commercial Director MESA+ institute for
大阪大学 産業科学研究所・特任教授、NEDO 技術戦略研究センター長、nano tech 実行委員会 委員長 川合知二
- Annie Chang, Women in Technology Japan, President
Women In Technology Japan 代表 アニー・チャン
- Janneke Hoedemaekers, Technical and Commercial Director MESA+ institute for
Nanotechnology, Managing Director of High Tech Fund
MESA+ institute for Nanotechnology テクニカル・コマーシャルディレクター、
MESA+ institute for Nanotechnology テクニカル・コマーシャルディレクター、
High Tech Fund マネージング・ディレクター ジャネック・ホーデマエカーズ
■ Interview Panel | パネルインタビュー (16:00~16:20)
Interview panel with 3 members from the Dutch Partners in Business (PIB)
cluster, moderated by Jan-Hein Chrisstoffels
ヤン・ハイン・クリストッフェルスがモデレーターを務めるDutch Partners in
Business (PIB) クラスタ3 名とのパネルインタビュー
Interview panel with 3 members from the Dutch Partners in Business (PIB)
cluster, moderated by Jan-Hein Chrisstoffels
ヤン・ハイン・クリストッフェルスがモデレーターを務めるDutch Partners in
Business (PIB) クラスタ3 名とのパネルインタビュー
オランダハイテクセミナー : 日蘭のハイテクスタートアップ環境における挑戦と機会
15:00-16:20 日英同時通訳(同)
オランダ王国大使館
【講演概要】
日本とオランダのハイテクスタートアップ環境における挑戦と機会